એનોડિક કલરિંગ પ્રક્રિયા ઇલેક્ટ્રોપ્લેટિંગ જેવી જ છે, અને ઇલેક્ટ્રોલાઇટ માટે કોઈ ખાસ જરૂરિયાતો નથી.10% સલ્ફ્યુરિક એસિડ, 5% એમોનિયમ સલ્ફેટ, 5% મેગ્નેશિયમ સલ્ફેટ, 1% ટ્રાઇસોડિયમ ફોસ્ફેટ, વગેરેના વિવિધ જલીય દ્રાવણ, સફેદ વાઇનના જલીય દ્રાવણનો પણ જ્યારે જરૂર પડે ત્યારે ઉપયોગ કરી શકાય છે.સામાન્ય રીતે, ટ્રાઇસોડિયમ ફોસ્ફેટના વજન દ્વારા 3%-5%ના નિસ્યંદિત જલીય દ્રાવણનો ઉપયોગ કરી શકાય છે.ઉચ્ચ વોલ્ટેજ રંગ મેળવવા માટે રંગ પ્રક્રિયામાં, ઇલેક્ટ્રોલાઇટમાં ક્લોરાઇડ આયનો ન હોવા જોઈએ.ઊંચા તાપમાને ઇલેક્ટ્રોલાઇટ બગડે છે અને છિદ્રાળુ ઓક્સાઇડ ફિલ્મનું કારણ બને છે, તેથી ઇલેક્ટ્રોલાઇટને ઠંડી જગ્યાએ મૂકવી જોઈએ.
એનોડ કલરિંગમાં, ઉપયોગમાં લેવાતા કેથોડનો વિસ્તાર એનોડ કરતા બરાબર અથવા મોટો હોવો જોઈએ.એનોડિક કલરિંગમાં વર્તમાન કેદ મહત્વપૂર્ણ છે, કારણ કે કલાકારો ઘણીવાર કેથોડિક વર્તમાન આઉટપુટને પેઇન્ટબ્રશની મેટલ ક્લિપ પર સીધું સોલ્ડર કરે છે, જ્યાં રંગ વિસ્તાર નાનો હોય છે.કલરિંગ એરિયા સાથે એનોડ રિએક્શન સ્પીડ અને ઇલેક્ટ્રોડના કદને મેચ કરવા અને વધુ પડતા કરંટને કારણે ઓક્સાઇડ ફિલ્મને ક્રેકીંગ અને વિદ્યુત કાટ લાગવાથી અટકાવવા માટે, વર્તમાન મર્યાદિત હોવો જોઈએ.
ક્લિનિકલ મેડિસિન અને એરોસ્પેસ ઉદ્યોગમાં એનોડાઇઝિંગ તકનીકનો ઉપયોગ
ટાઇટેનિયમ એ જૈવિક રીતે નિષ્ક્રિય સામગ્રી છે, અને જ્યારે તે અસ્થિ પેશી સાથે જોડવામાં આવે છે ત્યારે તે ઓછી બંધન શક્તિ અને લાંબા હીલિંગ સમય જેવી સમસ્યાઓ ધરાવે છે, અને ઓસીઓઇન્ટીગ્રેશન બનાવવું સરળ નથી.તેથી, સપાટી પર HA ના જમાવટને પ્રોત્સાહન આપવા અથવા તેની જૈવિક પ્રવૃત્તિને સુધારવા માટે બાયોમોલેક્યુલ્સના શોષણને વધારવા માટે ટાઇટેનિયમ પ્રત્યારોપણની સપાટીની સારવાર માટે વિવિધ પદ્ધતિઓનો ઉપયોગ કરવામાં આવે છે.છેલ્લા દાયકામાં, TiO2 નેનોટ્યુબને તેમના ઉત્કૃષ્ટ ગુણધર્મોને કારણે વ્યાપક ધ્યાન આપવામાં આવ્યું છે.ઇન વિટ્રો અને ઇન વિવો પ્રયોગોએ પુષ્ટિ કરી છે કે તે તેની સપાટી પર હાઇડ્રોક્સાપેટાઇટ (HA) ના જમાવટને પ્રેરિત કરી શકે છે અને ઇન્ટરફેસની બંધન શક્તિમાં વધારો કરી શકે છે, ત્યાં તેની સપાટી પર ઓસ્ટિઓબ્લાસ્ટ્સના સંલગ્નતા અને વૃદ્ધિને પ્રોત્સાહન આપે છે.
સરફેસ ટ્રીટમેન્ટની સામાન્ય પદ્ધતિઓમાં સોલજેલ લેયર મેથડ, હાઇડ્રોથર્મલ ટ્રીટમેન્ટ ઇલેક્ટ્રોકેમિકલ ઓક્સિડેશન અત્યંત નિયમિત રીતે ગોઠવાયેલા TiO2 નેનોટ્યુબ્સ તૈયાર કરવા માટેની એક અનુકૂળ રીત છે.આ પ્રયોગમાં, TiO2 નેનોટ્યુબ તૈયાર કરવા માટેની શરતો અને SBF સોલ્યુશનમાં ટાઇટેનિયમ સપાટીની ખનિજીકરણ પ્રવૃત્તિના પ્રભાવ પર TiO2 નેનોટ્યુબની અસર.
ટાઇટેનિયમમાં ઓછી ઘનતા, ઉચ્ચ વિશિષ્ટ શક્તિ અને ઉચ્ચ તાપમાન પ્રતિકાર છે, તેથી તે એરોસ્પેસ અને સંબંધિત ક્ષેત્રોમાં વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લેવાય છે.પરંતુ ગેરલાભ એ છે કે તે પહેરવા માટે પ્રતિરોધક નથી, ખંજવાળવામાં સરળ અને ઓક્સિડાઇઝ કરવામાં સરળ છે.એનોડાઇઝિંગ એ આ ખામીઓને દૂર કરવા માટેનું એક અસરકારક માધ્યમ છે.
એનોડાઇઝ્ડ ટાઇટેનિયમનો ઉપયોગ સુશોભન, અંતિમ અને વાતાવરણીય કાટ સામે પ્રતિકાર માટે થઈ શકે છે.સ્લાઇડિંગ સપાટી પર, તે ઘર્ષણ ઘટાડી શકે છે, થર્મલ નિયંત્રણમાં સુધારો કરી શકે છે અને સ્થિર ઓપ્ટિકલ કામગીરી પ્રદાન કરી શકે છે.
તાજેતરના વર્ષોમાં, ઉચ્ચ વિશિષ્ટ શક્તિ, કાટ પ્રતિકાર અને જૈવ સુસંગતતા જેવા તેના શ્રેષ્ઠ ગુણધર્મોને કારણે બાયોમેડિસિન અને ઉડ્ડયનના ક્ષેત્રોમાં ટાઇટેનિયમનો સારી રીતે ઉપયોગ કરવામાં આવ્યો છે.જો કે, તેના નબળા વસ્ત્રો પ્રતિકાર પણ ટાઇટેનિયમના ઉપયોગને મોટા પ્રમાણમાં મર્યાદિત કરે છે.ડ્રિલ એનોડાઇઝિંગ ટેક્નોલોજીના આગમન સાથે, તેનો આ ગેરલાભ દૂર કરવામાં આવ્યો છે.એનોડાઇઝિંગ ટેક્નોલોજી મુખ્યત્વે ઓક્સાઇડ ફિલ્મની જાડાઈ જેવા પરિમાણોના ફેરફાર માટે ટાઇટેનિયમના ગુણધર્મોને ઑપ્ટિમાઇઝ કરવા માટે છે.
પોસ્ટ સમય: જૂન-07-2022